半绝缘砷化镓单晶中AB微缺陷的定量测量方法
A Quantitative Method of AB Microscopic Defects in Semi-insulating GaAs Single Crystals
投稿时间:1998-09-30  修订日期:1998-11-16
DOI:
中文关键词:  图象分析  微缺陷  砷化镓  单晶
英文关键词:image analysis  microscopic defect  GaAs  single crystal
基金项目:
作者单位
张泽兰 武汉大学分析测试中心 武汉430072 
曾立波 武汉大学分析测试中心 武汉430072 
齐芸馨 电子工业部第四十六所 天津300220 
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中文摘要:
      报道了非掺杂半绝缘砷化镓单晶中AB微缺陷显微特征的研究结果,提出了一种自动定量测量微缺陷的方法,并在WD-5图象处理分析系统中实现了该算法。
英文摘要:
      The microscopic characteristics of AB microdefects in LEC undoped semi-insulating GaAs single crystals have been studied. A new method for auto mesurement of microdefects is proposed and realized by WD-5 image processing and analysis system.
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